）微电子所”研发的第三代投影曝光光刻机上，完成了亚微米光刻机自产的最后一步。
被命名为流光3.1的投影光刻机，实现了完全100%的国产化。从镜头到机械，从光源到系统，全部都是由国内厂家配套生产。干法光刻节点1微米，采用浸入式和光学邻近效应矫正等技术后，工艺节点可达到0.8微米级别。
至此，蓝光ld的生产技术已经万事俱备。相较于传统照明技术，ld照明的优势相当明显。
一片蓝海，正要在胡文海的描绘下，对夏雪宜和帝都显像管厂徐徐展开。
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